Plasma etch: where science meets precision. Using plasma, chipmakers can carve microscopic patterns on a wafer. Learn how our plasma etch systems define the pathways that bring advanced technology to life. https://bit.ly/4mji5qd | Lam Research Corporation
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2023年4月20日
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2024年1月30日
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2024年4月24日
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7-32. Two different plasma etchers in a semiconductor factory have the same mean etch rate H. However, machine 1 is newer than machine 2 and consequently has smaller variability in etch rate. We know that the variance of etch rate for machine 1 is σ1^2 and for machine 2, it is σ2^2. Suppose that we have n1 independent observations on etch rate from machine 1 and n2 independent observations on etch rate from machine 2. Show that σ^2 = (n1-1)σ1^2 (n2-1)σ2^2 / (n1 n2 - 2) is an unbiased es
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2023年9月4日
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